第一百八十二章 浸入式技术(第2/2 页)
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机的加工精度!
陈伟东将这项“技术”,告诉了克鲁格教授。
最近这些天,他在实验中将那台从树屋研究所带回来的光刻机,精度一百九十纳米的光刻机,成功刻制出了一百零五纳米的密集图形!
这一结果让他欣喜若狂!
几近失态!
通常的光刻机,在光刻镜头与硅晶圆之间,没有任何遮挡。
当然,从另一个角度来说,它们之间,存在的是空气。
浸入式的思路,就是用液体来替换掉中间的空气。
由于液体具有折光率,所以当紫外线通过液体介质之后,它的光源波长就会缩短,从而起到精微刻制的作用。
本来他们还觉得有些老旧的光刻机,突然摇身一变,成为了一百零五纳米的光刻机,远远的超过了现有的光刻技术!
其实这个浸入式光刻技术,并不算asml首创。
早在80年代初,就有科学家采用浸入技术,成功提高了光刻效果。
然而,这项技术,它的液体很容易污染光学镜片。
所以这个这个时期的主流光刻技术研究,只是将其作为一个过渡手段,并没有起到足够的重视。
一旦下一代光刻技术成熟,便会毫不犹豫的抛弃浸入式光刻。
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